氣相沉積、光刻機(jī)刻蝕配套薄膜制備等半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié),
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射技術(shù)是制備高質(zhì)量功能薄膜的核心手段。傳統(tǒng)直流磁控濺射過(guò)程中,靶材易因持續(xù)高能離子轟擊產(chǎn)生過(guò)高溫度,引發(fā)靶材變形、開裂、晶粒粗大等問(wèn)題,嚴(yán)重影響薄膜沉積質(zhì)量與靶材利用率。脈沖磁控濺射技術(shù)通過(guò)獨(dú)特的脈沖供電模式,有效降低靶材溫度,成為解決這一痛點(diǎn)的關(guān)鍵方案,為半導(dǎo)體薄膜制備的精準(zhǔn)化、高效化提供有力支撐。
脈沖磁控濺射降低靶材溫度的核心原理在于“間歇式能量輸入”與“等離子體特性優(yōu)化”。傳統(tǒng)直流磁控濺射采用連續(xù)直流供電,氬離子等轟擊粒子持續(xù)撞擊靶材表面,動(dòng)能不斷轉(zhuǎn)化為熱能,導(dǎo)致靶材溫度持續(xù)升高。而脈沖磁控濺射通過(guò)高頻脈沖電源輸出周期性的電壓脈沖,在脈沖導(dǎo)通期,等離子體被激發(fā)并轟擊靶材實(shí)現(xiàn)濺射;在脈沖關(guān)斷期,濺射過(guò)程暫停,靶材表面的熱量可通過(guò)熱傳導(dǎo)、輻射等方式散發(fā),避免熱量累積。同時(shí),脈沖模式可優(yōu)化等離子體密度與能量分布,減少高能粒子占比,降低單位時(shí)間內(nèi)靶材接收的能量輸入,從源頭抑制溫度上升。
靶材溫度的降低帶來(lái)多重核心優(yōu)勢(shì),契合半導(dǎo)體薄膜制備的嚴(yán)苛需求。一是提升靶材穩(wěn)定性與使用壽命,避免高溫導(dǎo)致的靶材變形、開裂及組分揮發(fā),尤其對(duì)于貴金屬、稀有金屬等高價(jià)靶材,可顯著提高利用率,降低生產(chǎn)成本。二是優(yōu)化薄膜沉積質(zhì)量,高溫易導(dǎo)致靶材晶粒粗大,進(jìn)而影響薄膜的致密性與均勻性,脈沖磁控濺射下的低溫環(huán)境可細(xì)化薄膜晶粒,減少缺陷,提升薄膜的電學(xué)、光學(xué)性能,滿足光刻機(jī)刻蝕配套薄膜等高精度場(chǎng)景的要求。三是拓展適用靶材范圍,對(duì)于熔點(diǎn)較低、熱穩(wěn)定性差的靶材(如某些化合物靶材),脈沖磁控濺射可在其耐受溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定濺射,打破傳統(tǒng)技術(shù)的局限。

實(shí)現(xiàn)脈沖磁控濺射高效降溫需精準(zhǔn)調(diào)控關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)。脈沖頻率與占空比是核心調(diào)控指標(biāo),通常選用kHz至MHz級(jí)高頻脈沖,占空比(導(dǎo)通時(shí)間與周期的比值)可在10%-50%范圍內(nèi)調(diào)整,通過(guò)降低占空比減少能量輸入時(shí)間,強(qiáng)化降溫效果,但需平衡降溫與濺射速率。此外,優(yōu)化磁場(chǎng)分布可增強(qiáng)等離子體約束能力,減少無(wú)效能量損耗;合理控制濺射氣壓與靶基距,可進(jìn)一步優(yōu)化粒子轟擊能量,輔助降低靶材溫度。同時(shí),配備高效的靶材冷卻系統(tǒng)(如背部水冷、風(fēng)冷),與脈沖濺射模式協(xié)同作用,可實(shí)現(xiàn)溫度的精準(zhǔn)管控。
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,脈沖磁控濺射的低溫優(yōu)勢(shì)已得到廣泛應(yīng)用。在芯片金屬化層制備中,可實(shí)現(xiàn)低缺陷銅、鋁薄膜的沉積;在光刻機(jī)光學(xué)元件鍍膜環(huán)節(jié),能保障薄膜的高均勻性與光學(xué)穩(wěn)定性;在柔性電子薄膜制備中,低溫濺射可避免基底受損。隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高精度、微納尺度發(fā)展,脈沖磁控濺射技術(shù)不斷迭代,通過(guò)脈沖波形優(yōu)化、等離子體診斷技術(shù)升級(jí)等,進(jìn)一步提升溫度調(diào)控精度與濺射效率。
脈沖磁控濺射通過(guò)創(chuàng)新的供電模式從根本上解決了傳統(tǒng)磁控濺射靶材溫度過(guò)高的痛點(diǎn),為氣相沉積、光刻機(jī)刻蝕配套薄膜制備等環(huán)節(jié)提供了更穩(wěn)定、高效的技術(shù)方案。其在降低靶材損耗、提升薄膜質(zhì)量、拓展適用范圍等方面的顯著優(yōu)勢(shì),使其成為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域不可少的關(guān)鍵技術(shù),隨著技術(shù)的持續(xù)優(yōu)化,將為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展注入更強(qiáng)動(dòng)力。